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產(chǎn)品簡介
橢圓偏振儀 型號:HAD-WJZ-Ⅱ本儀器以分光計為實驗平臺，不但可與我廠定型產(chǎn)品配套，還可以與其它廠家的儀器配用。參數(shù)：1、測量透明薄膜厚度范圍0-300nm，折射率1.30-2.49 2、起偏器、檢偏器、1/4波片刻度范圍0°-360°，游標讀數(shù)0.1°3、測量度：±2nm.4、入射角ψ=70°，K9玻璃折射率n=1.515.5、消光系數(shù)：0，空氣折射率1
產(chǎn)品分類
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2025-07-222025-05-232024-06-112024-04-07| 品牌 | 其他品牌 | 產(chǎn)地類別 | 國產(chǎn) |
|---|---|---|---|
| 應(yīng)用領(lǐng)域 | 能源,電子/電池,道路/軌道/船舶,汽車及零部件,電氣 | 外廓尺寸 | 320mm x 260mm x 330mm , |
激光橢圓偏振儀/橢圓偏振儀 型號:HAD-WJZ-Ⅱ
本儀器以分光計為實驗平臺，不但可與我廠定型產(chǎn)品配套，還可以與其它廠家的儀器配用。參數(shù)：1、測量透明薄膜厚度范圍0-300nm，折射率1.30-2.49 2、起偏器、檢偏器、1/4波片刻度范圍0°-360°，游標讀數(shù)0.1°3、測量度：±2nm.4、入射角ψ=70°，K9玻璃折射率n=1.515.5、消光系數(shù)：0，空氣折射率1，配有光電探頭，檢計.(本型號不含分光計主計)
2.浸漬提拉涂敷機/勻膠機 型號:HAD-C128
產(chǎn)品簡介：
浸漬提拉涂敷法：（簡述）
把需要涂敷的基片浸入溶液中，通過預先設(shè)置的速度，在一定的溫度和空氣環(huán)境下將基片慢慢提拉起來，
在基片的表面形成薄膜。膜層厚度由提拉速度，固體含量和液體粘度決定。用溶膠凝膠的方式涂敷成膜，
空氣會使溶劑揮發(fā)，而溶劑揮發(fā)，又會進一步促使溶膠脫穩(wěn)，使其進入凝膠過程，由于溶劑膠中的微小粒子（納米級），
最后會形成透明的薄膜。提拉涂敷法適用于基片比較大，異形幾何體，兩面及多面涂敷成膜的情況。
主要用于材料浸入液體，膠體中經(jīng)提拉在表面形成薄膜，適用于硅片，晶片，玻璃，陶瓷，木材，
金屬等所有固體材料表面涂覆工藝。可在科研，教育，生產(chǎn)中應(yīng)用。
"dip coater"行業(yè)稱：提拉機 提拉涂覆機
主要特點：
* 計算機控制運行，運行參數(shù)記憶，一鍵復位，保障試驗過程可重復。
實時狀態(tài)（距離mm,時間h:min:sec）數(shù)據(jù)顯示，方便觀察實驗現(xiàn)象。到位自動停機，聲音報告。
* 高精度直線導軌控制運行軌跡，保障運行軌跡的精確直線性。
* 2個工作位：可安放2個燒杯，內(nèi)盛不同粘度的膠體。
每個工作位可夾持1個以上的“玻片"。工作效率更高。
* 彈簧夾持“玻片"，結(jié)構(gòu)更簡單，操作更方便。
技術(shù)參數(shù)：
單相交流電源：220V.50Hz
功率：30W
最快直線速度：300mm/min
最慢直線速度：5.9X10-7 m/sec （1毫米/0.47小時）
有效提拉高度：128mm
可設(shè)定 時間：1秒----9小時59分59秒
外廓尺寸： 320mm x 260mm x 330mm ,
3.真空冷鑲嵌機 型號:HAD-CB
產(chǎn)品型號：HAD-CB
產(chǎn)品簡介：用于多孔試樣鑲嵌，微型試樣鑲嵌：
尤其是線路板、帶有微細孔的各種材料的鑲嵌。
在工業(yè)中，還可與染色劑配合，用于各種缺陷的檢查。
它的原理是把空氣從孔隙中吸出，再利用大氣壓的作用把鑲嵌料或染色劑壓
進微細孔。
還適用于將試樣粘貼到載片上制作薄片試樣
主要特點：
*真空室較大，可同時浸漬或鑲嵌多個試樣。
*真空室透明，方便觀察鑲嵌成型過程。
*真空室有一定厚度的有機玻璃制造，不易破碎，遠比普通玻璃真空室要堅固，安全。
* 操作簡便，外置柱狀裝置對導料管夾緊，操作簡單，阻斷可靠
配合使用一次性耗材，
*設(shè)置料杯安放架，防止料杯傾覆，防止污染桌面，更人性化。
*內(nèi)置真空泵,采用新技術(shù):保證不回油,不污染樣品.不產(chǎn)生油霧, 不污染室內(nèi)環(huán)境.
（普通旋片式真空泵，可能回油，真空油反流到真空室，污染標本，操作失敗。
普通旋片式真空泵，工作過程中，由于高速旋轉(zhuǎn)及摩擦生熱兩種原因產(chǎn)生油霧，
污染室內(nèi)環(huán)境。 影響身體健康。
鑲嵌室底部由食品級有機材料制成，從而便于清潔,而且不會粘附廢浸漬液
技術(shù)參數(shù)：真空度：-0.09MPa
電源: 交流 220V .
產(chǎn)品規(guī)格：350mm寬 x300mm深 x280mm 高
4.半導體晶片甩干機 型號:HAD-T150
功能：
用于半導體晶片高速旋轉(zhuǎn)干燥。
機理：
高速旋轉(zhuǎn)使半導體晶片充分與空氣接觸，快速干燥。
參數(shù)：
轉(zhuǎn)速可設(shè)置范圍：300-8000/分
時間可設(shè)置范圍：2*999秒
基片適用范圍：10mm-150mm.
結(jié)構(gòu)：半導體晶片卡裝。
5.電腦控制旋轉(zhuǎn)涂層機/勻膠機勻膠臺 甩膠機、旋涂儀 型號;HAD-C108
產(chǎn)品型號：HAD-C108
產(chǎn)品簡介：主要用于液體，膠體的成膜性能試驗，表面涂覆工藝。
"spin coater " 行業(yè)稱：勻膠機 勻膠臺 甩膠機、旋涂儀 旋轉(zhuǎn)涂膜機 旋涂機
主要特點：
*電腦控制，可預置并記憶轉(zhuǎn)速，控制轉(zhuǎn)盤均勻加速；
旋轉(zhuǎn)時間預置，到時，控制轉(zhuǎn)盤均勻減速。
*轉(zhuǎn)速高:300– 8000轉(zhuǎn)/分. ( 100轉(zhuǎn)/步 ,調(diào)整 )
*電腦閉環(huán)控制電機,轉(zhuǎn)速精確±0.5轉(zhuǎn)/分.方便實驗效果重現(xiàn).
*機械三爪式裝夾。裝夾可靠，可任意裝夾￠50—100mm片。
*機械四爪式裝夾。可靠裝夾方形，矩形片，（可選購件）
*機械微型夾板裝夾，
可以裝夾微小的圓形，方形，矩形，六角形，等異形薄片。（可選購件）
* 排除了因真空吸附不牢，造成飛片的可能。
*去除了真空泵，節(jié)約了您的金錢，減少了環(huán)境噪聲。
*工作腔可拆卸,方便清洗.
*工作腔透明, 方便觀察成膜過程。
*結(jié)構(gòu)設(shè)計無皮帶,無碳刷, 沒有因常時間遠行而需要更換的易損件。
其明顯效果是:機械噪音低,滿足實驗室要求.運行平穩(wěn)。
在此我們遵循了機械設(shè)計中，等壽命設(shè)計理論。
保障了用戶可以放心使用。
*透明工作腔密閉涂層實驗，無液體、膠狀體飛濺，工作環(huán)境衛(wèi)生，安全。
技術(shù)參數(shù)：
旋轉(zhuǎn)盤直徑：120mm。可任意裝夾￠50—100mm片
旋轉(zhuǎn)盤最高轉(zhuǎn)數(shù):8000r/min。
可調(diào)數(shù)顯轉(zhuǎn)數(shù)：300 - 8000 轉(zhuǎn)。可設(shè)定時間：1 - 99分。
標準包裝：尺寸： 250mm寬 x 300mm深 x 215 mm高 , 重量： 9 kg
產(chǎn)品用途：將液體、膠狀體等材料在襯底上成膜
以上參數(shù)資料與圖片相對應(yīng)
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